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1100℃大口径双温区管式炉

1100℃大口径双温区管式炉GSL-1100X-XX-S2是一款双温区的大口径管式炉,炉管两端安装有铰链式不锈钢密封法兰。此款管式炉可广泛地应用于在真空或气氛保护环境下对材料进行烧结或退火等热处理。温控方面,设备可达到最高温度为1100℃,可设置30段升降温程序,控温精度为+/-1℃。

2000℃高真空气氛烧结炉

2000℃高真空气氛烧结炉GSL-2000X-HV是一款高温高真空气氛烧结炉,根据不同的加热元件模块,最高烧结温度可从1600℃到2000℃,此款烧结炉的真空度可高达10-5Torr(扩散泵)。

1200℃多坩埚同时移动型管式炉

1200℃多坩埚同时移动型管式炉是一款双温区带有升降双通道进料系统的共蒸发多层沉积管式炉,通过升降双通道进料系统可装载4个不同材料的蒸发坩埚舟,并且可一次同时送入两个蒸发坩埚源进入管式炉中进行共蒸发或反应蒸发。双温区管式炉可以实现快速加热,并且通过对各个温区设置不同的加热温度可以创建不同的温度梯度从而实现蒸发沉积。双通道进料系统可以在程序控制下将2个装载不同蒸发料的坩埚一同推进拉出

1200℃多坩埚依次移动型管式炉

1200℃多坩埚依次移动型管式炉是一款炉管可在炉管内部移动的(在真空气氛保护环境下移动)管式炉,最多可依次移动4个坩埚。特殊的坩埚推送机构,可将坩埚在炉管内推出后再拉回,让坩埚能做往返移动。坩埚移动位置&炉体的温度控制都采用一触摸屏控制。此款设备可进行物理化学混合沉积(HPCVD),快速热蒸发(RTE)等实验,特别适合制备多层二维晶体材料。

1200℃双温立式炉--OTF-1200X-4-VT-II

智慧彩票1200℃双温立式炉--OTF-1200X-4-VT-II是通过CE认证的双温区立式管式炉,其炉管直径可制作为100mm,适合于对样品在真空或气氛保护环境下进行吊烧和淬火。炉体下端安装有一移动架以方便与移动。采用PID方式进行温度调节,可设置30段升降温程序,控温精度为+/-1℃.

1700℃双温区管式炉--GSL-1700X-II

1700℃双温区管式炉--GSL-1700X-II是一款CE认证的双温区高温管式炉,每个加热区长度12’’,由30段智能温度调节仪进行控温,温度达到1700度时加热元件采用硅钼棒,温度在1400度时加热元件采用硅碳棒,可通过调节两个温区的控温程序使炉管内温场形成一温度梯度,此系列管式炉可以用CVD或PVD方法来生长纳米材料和制作各种薄膜。

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